Intel vừa cho biết đã sản xuất thành công chủng loại chip ứng dụng công nghệ sản xuất 45-nanomet và sẽ chính thức đưa các sản phẩm ứng dụng công nghệ sản xuất này ra thị trường vào nửa cuối năm 2007.
 
Thông tin trên được Mark Bohr, giám đốc kiến trúc sản xuất và tích hợp của Intel, vừa mới khẳng định.

Con chip thử nghiệm - được Intel sản xuất thành công trong tháng này – là loại chip nhớ SRAM tĩnh dung lượng 153-megabits với hơn một tỉ bóng bán dẫn (transitor) được tích hợp trên một kích thước tương tự như chip SRAM thử nghiệm công nghệ sản xuất 130-nanometer trong năm 2000 dung lượng 18-megabits.
 
Mặc dù đây mới chỉ là con chip thử nghiệm nhưng nó cũng đánh một dấu mốc quan trọng cho thấy chiến lược sản xuất của Intel vẫn ‘đang hoạt động tốt’ theo đúng kế hoạch của nó. Tuy nhiên, nó dường như cũng nói lên thêm một điều nữa là công nghệ khắc bản mạch bằng tia cực tím (extreme ultraviolet lithography) – công nghệ được xem là công nghệ sản xuất chip tương lai - của Intel có thể sẽ bị chậm lại.
 
Công nghệ sản xuất 45-nanometer có lẽ sẽ không được thực sự  yêu thích đơn giản vì rất nhiều nhà thiết kế chip tin rằng đây sẽ là một công nghệ rất khó chuyển sang ứng dụng trong nhiều năm nữa. Mức yêu cầu tiêu thụ năng lượng và vận hành của những loại chip ứng dụng công nghệ này thực sự là rất cao và nhà sản xuất chip buộc phải bổ sung thêm các loại nguyên liệu mới và thiết kế kiến trúc mới cho các bóng bán dẫn nhằm bảo đảm con chip hoạt động một cách hợp lý.
 
Intel đã tận dung khai thác tính chuyên nghiệp cao trong công nghệ sản xuất của mình để vượt qua mặt đối thủ AMD. Trong thời điểm hiện tại Intel đang cho xuất xưởng các loại chip ứng dụng công nghệ sản xuất 65-nanometer trong khi đó phải đến cuối năm nay AMD mới cho ra mắt các loại chip ứng dụng công nghệ sản xuất tương tự. Một câu hỏi lớn được đặt ra trong năm nay là liệu với những chủng loại chip và công nghệ sản xuất tiên tiến có giúp Intel giành lại thị phần đã mất từ tay AMD?
 
Bên cạnh đó Intel cũng đang cân nhắc đến việc ứng dụng công nghệ sản xuất 32-nanometer vào việc sản xuất các loại chip trong năm 2009. Theo Intel thì công nghệ Extreme Ultraviolet lithography (EUV) có thể ứng dụng để sản xuất các loại chip 22-nanometer vào năm 2011.

(Theo VnMedia)