 |
| Màng silicon chế tạo chip của Intel |
Intel sẽ chi 2 tỷ USD để chuyển đổi dây chuyền sản xuất màng silicon của mình tại Chandler, bang Arizona. Mỹ, sang công nghệ hiện đại. Nhà sản xuất chip hàng đầu thế giới này hôm qua (18/2) cho biết việc chuyển đổi này, dự kiến sẽ được thực hiện trong năm sau và kết thúc vào năm 2005, sẽ tăng gấp đôi năng suất chế tạo chip đồng thời giảm giá thành sản phẩm. Quá trình này bao gồm việc tu sửa lại toàn bộ dây chuyền và mua các công cụ chế tạo mới.
Theo Intel, dây chuyền này sẽ bắt đầu sản xuất màng silicon có kích thước bằng đĩa ăn với các transistor sát nhau ở khoảng cách 65 nanomet vào cuối năm 2005.
Bằng cách sử dụng các màng sillicon lớn hơn, (sản phẩm sẽ được chia nhỏ và đưa vào trong các con chip), và đặt các transistor gần nhau hơn, Intel sẽ có thể sản xuất các loại chip có hiệu năng cao hơn và các bộ vi xử lý chạy nhanh hơn va mát hơn.
Intel tiết kiệm chi phí xây dựng và giữ lại một khu sản xuất công nghệ cao bằng cách chuyển đổi và nâng cấp thay vì xây mới một dây chuyền khác.
Intel cho biết dự án này sẽ tạo ra hàng trăm công việc tạm thời nhưng sẽ không gia tăng lực lượng nhân công cố định của dây chuyền sản xuất này, hiện đang ở mức khoảng 2.000 người.
Nàh sản xuất chip này đã cắt giảm các kế hoạch xây dựng dây chuyền sản xuất mới và mua các thiết bị sản xuất chip hiện đại vì sự suy giảm trầm trọng của ngành công nghiệp bán dẫn. Tháng trước, Intel cho biết sẽ chỉ chi 3,5-3,9 tỷ USD cho các thiết bị mới, trong khi con số này năm 2002 là 4,7 tỷ.
Bình Minh - Theo AP
