Công ty có trụ sở chính tại Tokyo này sẽ đầu tư 12 tỷ  ¥en (110 triệu USD) trong năm tài khoá hiện tại, kéo dài đến hết tháng 3 năm 2004, để xây dựng một dây chuyền sản xuất mới tại nhà máy của mình ở Oita, trên hòn đảo Kyushu phía tây Nhật Bản.

Dây chuyền sản xuất này, ban đầu sẽ sản xuất các tấm silicon chế tạo chip bộ nhớ đường kính 200-millimet và có khả năng sản xuất theo công nghệ quy trình 90-nanomet, dự kiến sẽ được đưa vào hoạt động trong nửa sau năm 2004, theo lời Makoto Yasuda, một phát ngôn viên của Toshiba.

Với khoản đầu tư tăng cường này, Toshiba sẽ có mức chi tiêu đầu tư thương mại bán dẫn tăng hơn 10% trong năm nay, từ 118 tỷ yen lên 130 tỷ yen.

Ngoài dây chuyền sản xuất mới tại Oita, Toshiba đang lên kế hoạch xây dựng một dây chuyền sản xuất sản phẩm hoàn thiện tại nhà máy của mình ở Yokkaichi, tại quận Mie, có thể tạo ra các tấm bánh silicon đường kính 300-millimet. Tuy nhiên dây chuyền sản xuất này sẽ chỉ được hoạt động trong năm 2006.